​硬质氧化膜脆性大的问题受电解液温度、电流密度、氧化时间、电解液成分、铝合金成分、搅拌速度、冷却系统稳定性及电源波动等多重因素影响，具体如下：
电解液温度：硬质氧化通常在较低温度下进行（如-5℃到5℃），以减缓氧化膜的溶解速度，提高硬度和耐磨性。然而，温度过低会导致电解液电阻增大，氧化膜生长缓慢，且膜层脆性增加。温度过高则加速氧化膜溶解，降低硬度和厚度，甚至导致膜层疏松、烧焦。
电流密度：电流密度对氧化膜的生长速度和质量有重要影响。合适的电流密度（如2-5A/dm²）能促进氧化膜均匀生长，提高硬度和耐磨性。电流密度过低会导致氧化膜生长缓慢，膜层薄且硬度低；电流密度过高则会使氧化膜局部过热，出现烧蚀现象，同时增加能耗和生产成本，还可能导致膜层脆性增加。
氧化时间：氧化时间根据所需的膜厚来确定。氧化时间越长，膜厚越厚，但当膜厚达到一定程度后，继续延长氧化时间，膜厚的增加会逐渐减缓，且膜层的脆性可能会增加。
电解液成分：硫酸是硬质氧化常用的电解液成分。硫酸浓度过低时，氧化膜的生长速度较慢，但硬度和耐磨性较高；硫酸浓度过高，则会使氧化膜的溶解速度加快，导致氧化膜厚度不均匀，硬度降低。此外，添加剂如草酸、甘油等可以改善氧化膜的质量，如草酸能提高氧化膜的硬度和耐磨性，甘油可以降低氧化膜的脆性，提高其韧性。
铝合金成分：不同的铝合金成分对硬质氧化膜的质量有影响。例如，含铜量较高的铝合金在氧化过程中容易出现黑色斑点，且氧化膜的硬度和耐腐蚀性相对较差；而纯铝或含镁量较高的铝合金则更容易获得高质量的硬质氧化膜。
搅拌速度：良好的搅拌可以使电解液均匀分布，避免局部过热和浓度不均匀，有利于提高氧化膜的质量和均匀性。但搅拌速度不宜过快，否则会增加氧化膜的磨损，影响膜层的完整性。
冷却系统：硬质氧化过程中会产生大量的热量，需要有效的冷却系统来维持电解液的温度稳定。冷却系统的冷却效果直接影响到氧化膜的质量和生产效率。如果冷却系统出现故障，导致电解液温度过高，会严重影响氧化膜的性能，包括增加其脆性。
电源稳定性：稳定的电源是保证硬质氧化过程正常进行的关键。电源的电压和电流波动会导致氧化膜厚度和性能不均匀，甚至出现质量缺陷。因此，需要采用高质量、稳定性好的整流电源。